一、当前可售型号清单
ASML目前能向中国客户提供的机型主要集中在DUV（深紫外）光刻系统：
· TWINSCAN NXT:1980Di：沉浸式光刻机，支持7nm以上制程
· TWINSCAN NXT:2000i：升级版沉浸式设备，套刻精度更高
· PAS 5500系列：成熟干式光刻设备，适合特种芯片制造
这些设备能满足汽车电子、物联网芯片等常规需求，但无法用于5nm以下先进制程。
二、技术限制背后的逻辑
1. 分辨率限制：可售机型数值孔径（NA）均≤1.35
2. 生产效率：每小时晶圆处理量约275片（EUV机型可达170片/小时）
3. 双重用途：部分型号需额外审查，因可转用于其他领域
三、应用场景适配建议
根据国内晶圆厂实际案例：
· 成熟制程扩产：1980Di性价比突出
· CIS传感器生产：2000i的套刻精度更优
· 功率器件制造：PAS 5500完全够用
asml光刻机 光刻机翻新