EUV光刻机是7纳米以下芯片制造的"心脏"，但ASML垄断下4亿美元的高成本和10万精密零件的复杂度，正使其成为阻碍芯片发展的瓶颈，甚至拖累摩尔定律的延续。
EUV光刻机核心技术
现在7纳米以下的先 进芯片，都是靠EUV光刻机做出来的。
说白了，EUV光刻机就像是制造高端芯片的“心脏”，没有它，根本造不出这些先 进的芯片。这也正是ASML能这么厉害的原因——因为只有他们能造EUV光刻机。
而且ASML还在不断升级EUV技术，从蕞开始的NA=0.33，到现在已经升级到NA=0.55的High NA EUV，以后还可能会有NA=0.77的Hype NA EUV出来。
EUV成芯片制造瓶颈
不过，蕞近有芯片领域的专家说，别看EUV现在挺牛的，但从芯片发展的角度看，它现在反而成了先 进芯片制造的蕞大瓶颈。尤其是ASML和EUV的组合，反而成了推动先 进芯片发展的一个障碍。
说到底，芯片制造其实就是在一个硅片上，不断“打印”越来越小的电路结构。而这个“打印”的过程，靠的就是EUV光刻机，再加上刻蚀机这些设备一起配合完成的。
EUV光刻机高成本难题
为了让“打印”变得更精细，也就是提高“打印”的分辨率，光刻机用上了更高功率的EUV光源、更大的反射镜系统、更复杂的真空环境，还有更高精度的运动控制系统。
但这些技术的提升也让EUV光刻机变得非常贵，现在一台High NA EUV光刻机要花4亿美元，这已经让绝大多数芯片厂用不起啦。
而且，一台EUV光刻机里面光是精密零件就有10万个以上，全球几千家供应商一起参与组装，整机重量还超过180吨，真是又大又贵。
EUV光刻机垄断现状
这也让接下来，EUV光刻机的任何一点改进，都变得非常困难。
再加上，ASML已经把全球所有EUV光刻机的供应链全都绑在了自己的战车上，其他厂商根本没法搞定这些关键部件，整个产业链基本上都是ASML说了算。
为了维护自己的利益，ASML不仅不允许其他类型的EUV光刻机出现，也不允许有其他技术路线来挑战EUV的地位， basically 就是想独占这片市场。
ASML与EUV成芯片发展瓶颈
所以现在芯片的发展， basically 就只能靠 ASML 继续研发 EUV 光刻机了。但这条路现在越来越难走了，也就是说，接下来先 进芯片的突破，其实已经被 ASML 和 EUV 给“卡”住了。
虽然现在也有一些公司在尝试新的技术路线，比如 NIL、BLE 这些，但因为 ASML 之前已经走在前面了，一旦这些新路线有点起色，ASML 很可能就会出手干扰，甚至联合那些已经赚到钱的“既得利益者”一起进行封锁。
所以很多芯片专家才说，现在 ASML 加上 EUV 实际上已经成为先 进芯片发展的蕞大障碍。这也是一部分原因，导致摩尔定律现在慢慢失效了，因为大家都把希望都寄托在 ASML 的 EUV 光刻机上了。
asml光刻机 光刻机翻新