芯片制造的核心
光刻机在芯片制造中如同"投影相机"，将电路图投影到硅片上，其精度和组件复杂性决定了芯片的电路结构。光刻机，仿佛是超高精度的“投影相机”，将电路设计师精心绘制的电路图呈现在硅片上。这一过程涉及多个关键组件，包括掩模版、复杂的投影物镜系统、涂有光刻胶的硅晶圆，以及特定波长的深紫外光或极紫外光。光刻机的核心使命是以极高的精度将掩模版上的图案投影并曝光到晶圆的光刻胶上，这一步骤决定了后续电路结构的形成。
CMOS工艺中的地位
在CMOS工艺流程中，光刻机的地位更是举足轻重。 光刻机在CMOS工艺中扮演核心角色，决定芯片性能与品质。倘若整个芯片制造厂被比作一台精密机器，那么光刻机无疑是其“心脏”和“大脑”。它不仅掌控着芯片制造的核心步骤，更决定了芯片的性能与品质。
整体工艺联系
光刻机并非一台孤立的设备，而是与前后的涂胶、显影、刻蚀等工艺紧密相连。光刻过程中的任何微小变动，都可能对后续步骤产生深远的影响。因此，我们需要从整体上把握光刻机与其他工艺环节的相互关系。
关键性能指标
在评估光刻机性能时，我们应聚焦于三大 关键性能指标——分辨率、套刻精度和产能。
光刻机的复杂性
光刻机集合光学、机械、控制科学等多领域成果，体现尖端技术的复杂性。它是一个高度复杂的设备，体现了人类工程技术的杰出代表。每一台光刻机的诞生，都凝聚了无数科研人员的智慧与努力，因此，在面对光刻机时，我们应怀有敬畏之心。
光刻机翻新