一、光刻机的前奏曲
ASML光刻机的工作始于一片纯净的硅晶圆。这台价值上亿的设备首先会对硅片进行精密清洗和涂胶处理，就像给相纸刷上感光乳剂。光刻胶的厚度控制在纳米级别，均匀度误差小于头发丝的千分之一。此时硅片进入预热阶段，为后续的曝光做好充分准备。
二、光影魔术的核心时刻
当硅片准备就绪，光刻机开始上演真正的魔法：
极紫外光投射：13.5纳米波长的EUV光源穿过掩膜版，将电路图案缩小4倍
多重反射聚焦：由德国蔡司打造的曲面镜组进行20余次反射，将光路精度控制在原子级别
纳米级对焦：每秒钟完成500次实时对焦校正，确保图案投影绝对清晰
三、从图案到芯片的蜕变
曝光后的硅片开启华丽变身之旅。经过显影液处理，未被光照的部分会被溶解，形成立体电路沟槽。随后通过离子注入、金属沉积等300多道工序，蕞终变成包含上百亿晶体管的芯片。整个过程需要在无尘环境中进行，比手术室洁净1000倍。
asml光刻机 光刻机翻新