一、ASML DUV光刻机概览
ASML的深紫外光刻机（DUV）是芯片制造的核心设备，采用193nm波长的深紫外光源。目前主流的TWINSCAN NXT系列包含多个型号，通过浸没式技术和多重曝光工艺，能够支持从成熟制程到先进制程的芯片生产。
二、主要型号及制程能力
NXT:1980Di：支持7nm及以上制程，通过多重曝光可实现5nm
NXT:1970Ci：适用于10nm-28nm制程节点
NXT:1965Ci：主要用于28nm-45nm制程
NXT:1950i：面向45nm-65nm制程需求
三、技术演进与应用场景
随着芯片制程的不断进步，DUV光刻机通过浸没式技术和创新的光学设计持续提升分辨率。虽然极紫外光刻机（EUV）已经问世，但DUV光刻机凭借成熟的工艺和较高的性价比，仍然是许多芯片制造厂商的重要选择，特别是在成熟制程领域。
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