一、极紫外光的魔法
ASML较先进的EUV光刻机使用13.5纳米波长的极紫外光，这种光能在硅片上刻出比头发丝细万倍的电路图案。关键突破在于：
· 锡滴激光等离子体光源：每秒5万次击打液态锡产生极紫外光
· 多层反射镜系统：由40层硅钼交替镀膜构成，反射效率达70%
· 真空环境传输：避免空气分子吸收极紫外光
二、会跳舞的纳米舞台
双工件台系统就像两个配合默契的芭蕾舞者：
1. 测量台：先对晶圆进行纳米级三维扫描
2. 曝光台：根据测量数据实时调整位置进行曝光
3. 无缝交接：两个工作台在0.1秒内完成晶圆交接
三、数字世界的雕刻师
计算光刻技术相当于给光刻机装上AI大脑：
· 光学邻近校正：预先扭曲图案补偿光学变形
· 光源掩模协同优化：动态调整4000个微镜角度
· 实时反馈系统：每片晶圆生成100GB检测数据用于优化
asml光刻机 光刻机翻新