一、光学系统：纳米级雕刻的‘画笔’
光刻机的核心在于用光‘画’出比头发丝细万倍的电路图案。其中光学镜头组堪称技术先进：
· 物镜数值孔径（NA）需突破0.55，镜片平整度误差小于0.1纳米
· 多层镀膜技术让紫外光透过率超90%
· 一套镜头组包含20+镜片，整体误差相当于地球表面起伏不超过1毫米
二、光源系统：能量与精度的平衡术
极紫外（EUV）光源是7nm以下芯片的必备武器：
1. 等离子激发：用激光轰击锡滴产生13.5nm波长光
2. 能量控制：每秒5万次脉冲，功率稳定在250瓦±1%
3. 真空环境：反射镜在0.01帕压力下工作，避免气体分子干扰
三、运动控制：原子尺度的‘芭蕾舞’
硅片和掩模台的同步移动精度决定图案重叠质量：
· 双工件台切换速度达0.4秒/片，定位误差<1纳米
· 磁悬浮导轨消除振动，相当于在高铁上绣花
· 实时校准系统每秒进行800万次测量补偿
asml光刻机