一、DUV光刻机：成熟工艺的主力军
ASML的深紫外（DUV）光刻机是芯片制造的经典选择，采用193nm波长的光源，通过浸没式技术实现更高分辨率。这类机型分为：
· 干式DUV：适合成熟制程，性价比突出
· 浸没式DUV：利用水介质提升精度，可支持7nm工艺
· 多重曝光DUV：通过多次曝光突破物理极限
二、EUV光刻机：突破物理极限的黑科技
极紫外（EUV）光刻机采用13.5nm极短波长，直接跳过多重曝光技术：
1. NXE系列：首代EUV机型，实现7nm以下制程
2. EXE系列：高数值孔径设计，瞄准2nm时代
3. Hybrid机型：兼容DUV与EUV的过渡方案
三、特殊用途机型：小众但关键
除了主流机型，ASML还提供：
· 电子束光刻机：用于掩模版制作和研发
· 量测光刻机：专注芯片检测环节
· 封装光刻机：服务先进封装需求
asml光刻机